回覆  murderfreaker


    即使係多重曝光,最終都係等效於 7nm
如果你堅持佢係 14nm,咁 9000s 就係以 1 ...
rabbit82047 發表於 2023-12-18 12:26


可能佢良率20%都殺呢!就喺點都要用DUV造到5nm,不過荷蘭對DUV設備出口到中国嘅permission仲有嗰幾禮拜到期,之後唔止EUV,DUV都唔准出口去中国,佢曝光一次嘅機就損耗一次,極多重曝光嘅機好快打柴,到時冇新機replace,冇零件repair,咁未手刻囉!

TOP

本帖最後由 rabbit82047 於 2023-12-20 22:02 編輯
可能佢良率20%都殺呢!就喺點都要用DUV造到5nm,不過荷蘭對DUV設備出口到中国嘅permission仲有嗰幾禮拜到 ...
seokwigeol 發表於 2023-12-20 19:26



    20%係唔可能,你要認清楚9000s係消費性產品,唔會貼錢賣
華為仲有後面研發團隊要維持,充足既盈利先可以保證後續研發

===
尋日 smee 部光刻機似乎有著落,因為漏風聲係 smee 既股東,不過都係睇幾時實際出貨
真係成事,禁令影響就可進一步降低,即使比 asml 落後d都唔緊要

TOP

良率應該無公司會公佈出來,大家都係估估下。

TOP

回覆  murderfreaker


    即使係多重曝光,最終都係等效於 7nm
如果你堅持佢係 14nm,咁 9000s 就係以 1 ...
rabbit82047 發表於 2023-12-18 12:26

乜嘢叫等效?
光學精度唔夠,同TSMC 7 DUV定Samsung 8比都追唔上,邊忽等效?

追5nm? 人地5nm EUV,個精度唔係你多重曝光話追就追㗎喎。

TOP

就算比你整粒5MM 量產良率一定超低,
無法大量生產,如成本太貴.燒作製程. ...
香煎香腸 發表於 2023-12-19 02:25

用電子束刻其實一定做得到

問題係刻一塊12吋晶圓要24小時以上
人地EUV量產講緊一小時已經250塊.........

TOP

乜嘢叫等效?
光學精度唔夠,同TSMC 7 DUV定Samsung 8比都追唔上,邊忽等效?

追5nm? 人地5nm EUV,個精度 ...
murderfreaker 發表於 2023-12-21 00:20



    你理得人地講咩丫,
我地知就算啦

講幾多次, 佢地都係用呢d消息來自high

TOP

乜嘢叫等效?
光學精度唔夠,同TSMC 7 DUV定Samsung 8比都追唔上,邊忽等效?

追5nm? 人地5nm EUV,個精度 ...
murderfreaker 發表於 2023-12-21 00:20


EUV成本貴過DUV咁多,
但係全部已知有能力生產7nm或以下既公司都用EUV, 就知用DUV multi-patterning係唔work

至於某国既物埋係咪同全世界其他地方唔同, 我就唔知啦

TOP

乜嘢叫等效?
光學精度唔夠,同TSMC 7 DUV定Samsung 8比都追唔上,邊忽等效?

追5nm? 人地5nm EUV,個精度 ...
murderfreaker 發表於 2023-12-21 00:20



    所以咪話你可以講 14nm 多重曝光,最終等效於 7nm 既 9000s,而實際性能等效於 7/5nm 既對應產品,例如 888
唔係咁難理解者

多重曝光,效率比唔上 euv 係已知劣勢,但可以推出消費性產品,成本上就肯定係可控
由始至終都無話過 duv 利用多重曝光可好過 euv 既制程,只係話係"未有" euv 之前,多重曝光係生產先進製程既可行辦法
都唔係咁難理解掛,點解要 quote 起"未有",就你諗你

TOP

本帖最後由 goee0004 於 2023-12-21 09:49 編輯

回覆 76# qcmadness

其實主要係分開生產技術 同 設計技術 , 即使生產技術被封阻, 但設計技術都要做落去, 主要想講華為冇停過更精細既晶片設計 , 用另類生產技術証明粒5MM 晶片上係WORK , 設計晶片未受落後太多(超越OR 平手)

TOP

EUV成本貴過DUV咁多,
但係全部已知有能力生產7nm或以下既公司都用EUV, 就知用DUV multi-patterning係唔wo ...
qcmadness 發表於 2023-12-21 00:45


人地軍用,成本幾高都無問題,你仲唔明

TOP