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Samsung:工藝製程不會落後於對手 承諾 3nm 比台積電早一年在 2021 年啟動
日前在位於 Santa Clara 的 2018年美國三星鑄造論壇(SFF)上,Samsung 公佈了旗下新技術流程的路線圖,除了重申計劃於今年晚些時候開始使用 7LPP 工藝技術及 EUVL 極紫外光刻技術生產晶片之外,同時亦提到 3nm 製造工藝的第一個細節。

Samsung 在晶片代工生產的主要競爭對手台積電已宣佈在今年第二季度開始批量生產 7nm,並會在明年開始大規模生產第二代 7nm 工藝技術的晶片,部分使用 EUV 投影,並會邁向 5nm 工藝 Risk Production 風險生產,預計將於 2020 年開始量產 5nm,再一步的 3nm 標准則大概會於 2022 年推出。<詳見文>
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